渲染烘焙

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

  • 烘焙纹理，如基础颜色或法线贴图，用于导出到游戏引擎。

  • 烘焙环境光遮蔽或程序纹理，作为纹理绘制或进一步编辑的基础。

  • 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。

配置

烘焙要求网格有一个UV贴图，以及一个颜色属性或图像纹理节点，并有一个要烘焙的图像。活动 图像纹理 节点或 颜色属性 被用来作为烘焙目标。

在密集的光线/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如AO或来自区域灯的软阴影。如果你为主要物体烘焙AO，你就不必在整个渲染过程中启用它，从而节省渲染时间。Cycles使用渲染设置（采样、反弹……）进行烘焙。这样一来，烘焙出来的纹理的质量应该和你从渲染场景中得到的结果一致。

设置

参考

面板:

渲染 ‣ 烘焙

烘焙

执行烘焙操作。

按多级精度进行烘焙

直接从多用途对象烘焙。

烘焙类型

烘焙通道的类型。

  • 合成结果:

    烘焙除镜面之外的所有材质、纹理和光照。对合并后的通道有贡献的通道可以被单独切换，以形成最终的贴图。

    环境光遮蔽:

    烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

    阴影:

    烘焙阴影及灯光。

    法向:

    烘焙不同空间的法线。

    UV:

    映射 UV 坐标，用于表示纹理映射至网格上的位置。这通过图像的红色和绿色通道表示，蓝色通道的编码为常值1，但不保存任何信息。

    粗糙度:

    烘焙材料的粗糙度通道。

    自发光:

    烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

    环境:

    将环境（用于场景的世界表面着色器）烘焙到选定对象上，如从世界原点投射的光线。

    漫反射:

    烘焙材质的漫射通道。

    光泽:

    烘焙材料的光泽度。

    透射:

    烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

观察方位

反射射线方向的来源。

  • 表面上方:

    从表面上方投射光线。

    活动摄像机:

    使用活动摄像机的位置投射光线。

影响

合成结果

光照

  • 直接光

    增加直接的照明度。

  • 间接光

    添加间接照明贡献。

贡献

  • 漫反射

    增加漫反射度。

  • 光泽

    添加光泽度。

  • 透射

    增加传输贡献。

  • 环境光遮蔽

    添加环境光屏蔽贡献。

  • 自发光

    增加发光度。

散射、光泽度、透射

贡献

  • 直接光

    参见 上文。

    间接光

    参见 上文。

  • 颜色

    为通道上色。

    • 如果仅选择了 “颜色”，您将获得通过颜色，这是表面的一个属性，与采样细化无关。

    • 如果未选择 “颜色”，您将获得灰度的直接和/或间接贡献。

    • 如果选择了 颜色 和 直接 或 间接，则直接和/或间接贡献将着色。

法向

空间

法线可以在不同的空间中烘焙：

对于材质，可以在现有 法线贴图 设置旁边的图像纹理选项中选择相同的空间。为了获得正确的结果，此处的设置应与用于烘焙的设置相匹配。

  • 物体:

    对象坐标中的法线，与对象变换无关，但取决于变形。

    切向 (正切):

    切线空间坐标中的法线，与对象转换和变形无关。这是默认设置，在大多数情况下都是正确的选择，因为法线贴图也可以用于动画对象。

重排 R、G、B

轴要烘焙成红色，绿色和蓝色的通道。

所选物体 到 活动物体

将选定物体表面上的着色烘焙到活动物体。光线从低多边形物体向内投射到高多边形物体。如果高多边形物体不完全受低多边形物体的影响，则可以使用 最大光线距离 或 挤出 *（取决于您是否使用罩体）来调整光线起点。为了获得更多控制，您可以使用 *罩体物体。

Note

用于烘焙的每个对象都有一个 CPU 固定内存占用空间。为了避免因内存不足而崩溃，可以在烘焙过程之前将高多边形物体连接起来。

罩体

光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。

  • 罩式物体

    指定作为 罩体 的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

罩体偏移

Distance to use for the inward ray cast when using Selected to Active and Cage. The inward rays are cast from a version of the active object with disabled Edge Split Modifiers. Hard splits (e.g. when the Edge Split Modifier is applied) should be avoided because they will lead to non-smooth normals around the edges.

Note

当拉伸的基础网格未产生良好的结果时，您可以创建基础网格的副本并将其修改为用作 笼。两个网格需要具有相同的拓扑（面数和面顺序）。

最大光线距离

使用 选定物体 到 活动物体 时用于向内光线投射的距离。射线距离仅在不使用 笼子 时可用。

输出

目标

在哪里导出烘焙图。

  • 图像纹理:

    与 活动 图像纹理 节点相关的图像数据块。

    • 清空图像

      选择该项时，在渲染烘焙前会先清空图像。

    活动颜色属性:

    烘焙到活动网格上的 活动 颜色属性 层。注意，活动物体必须是网格，因为其他物体类型没有颜色属性。

边距

在对图像进行烘焙时，默认情况下会在UV “孤岛” 周围生成边缘。这对于避免由于纹理过滤和mipmap造成的UV接缝处的不连续是很重要的。

类型

生成边距的方法。

  • 扩选:

    通过重复边缘上的像素来扩展图像。

    相邻面:

    使用相邻面的像素跨越UV接缝来填充边际。

尺寸

边距的大小（以像素为单位）。