采样

EEVEE使用称为时间性抗锯齿（TAA）的过程来减少 锯齿。由于TAA是基于样本，因此样本越多，以性能为代价就会减少锯齿。

参考

面板:

渲染 ‣ 采样

视图

采样

在3D视图中使用的样本数。当设置样本数为零时，3D视图中将会不断采样。

时序重投影

移动视图或者播放动画期间降低噪点。可能会留下一些重影。

抖动阴影

Enable jittered shadows on the viewport. Jittered shadows are always enabled for final renders. This also affects shadows casted by transparent shadows.

渲染

采样

在最终渲染中使用的样本数。

阴影

光线数量

Number of rays to trace for each light. Higher values reduces the noise caused by random shadow sampling.

步数 (阶梯)

Number of shadow map sample per shadow ray. Higher step count results in softer shadows but have a higher cost.

体积阴影

体积物体周围的近似光吸收。这会使体积物体更不容易透光。这是一个非常消耗资源的选项，并有局限性。

• 步数 (阶梯)

  计算体积阴影的步数。

See also

体积限制。

分辨率

阴影贴图的分辨率百分比。

高级

光照阈值

Minimum light intensity for a light to contribute to the lighting. Used to compute the distance at which to cut-off lights influence. Lower values improve performance.

See also

自定义距离 会覆盖此设置。