渲染烘焙

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

  • 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。

  • 烘焙环境光遮蔽或程序纹理，作为纹理绘制或进一步编辑的基础。

  • 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。

安装

烘焙要求网格有一个UV贴图，以及一个颜色属性或图像纹理节点，并有一个要烘焙的图像。 Active 图像纹理 节点或 颜色属性 被用来作为烘焙目标。

在密集的光线/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如AO或来自区域灯的软阴影。如果你为主要物体烘焙AO，你就不必在整个渲染过程中启用它，从而节省渲染时间。Cycles使用渲染设置（sample, bounces, …）进行烘焙。这样一来，烘焙出来的纹理的质量应该和你从渲染场景中得到的结果一致。

设置

参考

面板:

渲染 ‣ 烘焙

烘焙

执行烘焙操作。

按多级精度进行烘焙

直接从多用途对象烘焙。

烘焙类型

烘焙通道的类型

  • 合成结果:

    烘焙除镜面之外的所有材质、纹理和光照。对合并后的通证有贡献的通证可以被单独切换，以形成最终的地图。

    环境光遮蔽:

    烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

    阴影:

    烘焙阴影及灯光。

    法线:

    烘焙不同空间的法线。

    UV:

    映射 UV 坐标，用于表示纹理映射至网格上的位置。这通过图像的红色和绿色通道表示，蓝色通道的编码为常值1，但不保存任何信息。

    粗糙度:

    烘焙材料的粗糙度通道。

    自发光:

    烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

    环境:

    根据从世界原点（0, 0, 0）投射的光线所看到的，将环境（即为场景定义的世界表面着色器）烘焙到选定的物体上。

    漫射色采样:

    烘焙材质的漫射通道。

    光泽:

    烘焙材料的光泽度。

    传递采样:

    烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

View From

Source of reflection ray directions.

  • 表面上方:

    Cast rays from above the surface.

    Active Camera:

    Use the active camera’s position to cast rays.

影响

合成结果

光照

  • 直接光

    增加直接的照明度。

  • 间接光

    添加间接照明贡献。

贡献

  • 漫射色采样

    增加漫反射度。

  • 光泽

    添加光泽度。

  • 传递采样

    增加传输贡献。

  • 环境光遮蔽

    添加环境光屏蔽贡献。

  • 自发光

    增加发光度。

散射、光泽度、透射

贡献

  • 直接光

    参见 above。

    间接光

    参见 above。

  • 颜色

    添加环境光屏蔽贡献。

    • 如果仅选择了 “颜色” ，您将获得通过颜色，这是表面的一个属性，与采样细化无关。

    • 如果未选择 “颜色” ，您将获得灰度的直接和/或间接贡献。

    • 如果选择了 颜色 和 直接 或 间接 ，则直接和/或间接贡献将着色。

法线

空间

法线可以在不同的空间中烘焙：

对于材质，可以在现有 法线贴图 设置旁边的图像纹理选项中选择相同的空间。为了获得正确的结果，此处的设置应与用于烘焙的设置相匹配。

  • 物体:

    对象坐标中的法线，与对象变换无关，但取决于变形。

    切向（正切）:

    切线空间坐标中的法线，与对象转换和变形无关。这是默认设置，在大多数情况下都是正确的选择，因为法线贴图也可以用于动画对象。

斯威兹尔 R， G， B

轴要烘焙成红色，绿色和蓝色的通道。

所选物体 到 活动物体

将选定对象表面上的着色烘焙到活动对象。光线从低多边形物体向内投射到高多边形物体。如果高多边形对象不完全受低多边形对象的影响，则可以使用 最大光线距离 或*拉伸 （取决于您是否使用笼子）来调整光线起点。为了获得更多控制，您可以使用 笼子对象*。

Note

用于烘焙的每个对象都有一个 CPU 固定内存占用空间。为了避免因内存不足而崩溃，可以在烘焙过程之前将高多边形物体连接起来。

罩体

光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。

  • 罩式物体

    指定作为 罩体 的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

罩体偏移

Distance to use for the inward ray cast when using Selected to Active and Cage. The inward rays are cast from a version of the active object with disabled Edge Split Modifiers. Hard splits (e.g. when the Edge Split Modifier is applied) should be avoided because they will lead to non-smooth normals around the edges.

Note

当拉伸的基础网格未产生良好的结果时，您可以创建基础网格的副本并将其修改为用作 笼 。两个网格需要具有相同的 拓扑 （面数和面顺序）。

最大光线距离

使用 选定物体 到 活动物体 时用于向内光线投射的距离。射线距离仅在不使用 笼子 时可用。

输出

Target 目标

在哪里导出烘焙图。

  • 图像纹理:

    与 活动 Image Texture 节点相关的图像数据块。

    • 清空图像

      选择该项时，在渲染烘焙前会先清空图像。

    将颜色属性复制到所选面。:

    烘焙到活动网格上的 Active Color Attributes 层。注意，活动对象必须是网格，因为其他对象类型没有颜色属性。

边距

When baking to images, by default a margin is generated around UV “islands”. This is important to avoid discontinuities at UV seams, due to texture filtering and mipmapping.

类型

生成边距的方法。

  • 扩选:

    通过重复边缘上的像素来扩展图像。

    相邻面:

    使用相邻面的像素跨越UV接缝来填充边际。

尺寸

边距的大小（以像素为单位）。