立方体(盒)反射
间接反射被存储在立方体贴图阵列中。从哪里对场景光照进行采样,然后在哪里应用,这些属性都通过立方体反射物体来定义。
See also
屏幕空间反射 比立方体反射要精确更多。启用后,优先使用屏幕空间反射,只有在光线无法采样时则使用立方体反射作补充。
如果启用 环境光遮蔽,将以物理合理的方式应用于间接光反射。
Note
The cube probes are encoded into tetrahedral maps. Some distortions may occur on the negative Z hemisphere. Those are more visible with higher roughness values.(立方体探头被编码为四面体映射。Z向为负的半球可能会出现一些畸变,粗糙度越高越明显。)
混合
来自立方体反射的光照强度会向外逐渐衰弱,直到边界。它们会衰减至融入到场景光照或另一个立方体反射光照。如果多个立方体光照重叠,则优先考虑体积较小的立方体反射。如果物体不在任何立方体反射影响范围内,或者间接光没有烘焙,将使用场景立方体对其进行着色。
参考
面板
物体数据 ‣ 光照探头
距离
探头物体仅影响其邻近表面的光照,其作用区域由距离参数与物体定义。各探头类型间有细微差别。
对于立方体反射,受影响的空间可以是一个以探头原心为中心的盒形或球形。
衰减
Percentage of the influence distance during which the influence of a probe fades linearly.
强度
Intensity factor of the recorded lighting. Making this parameter anything other than 1.0 is not physically correct. Use it for tweaking or artistic purposes.
范围限制
定义探头探测场景来烘焙贴图的最小距离和最大距离范围。
可见性集合
当物体距离探头过近时,会影响探头探测场景来烘焙光照贴图。可见性集合可以使仅该集合(群组)物体可被探头采集到光照信息。
另有一个选项可以反转操作,就是反过来去在探头中隐藏此集合中的物体。
Note
这只是一个过滤选项。如果一个物体在渲染时不可见,那么它在探头烘焙中也是不可见的。
自定义视差
参考
面板
物体数据 ‣ 自定义视差
默认情况下, 影响体积也是视差体积。视差体积是记录的光照投射的体积。它应该大致适合周围。在某些情况下, 最好在不触及影响参数的情况下调整视差体积。在这种情况下, 只需启用 自定义视差 并单独修改视差体积的形状和距离。
视图显示
影响
在3D视图中显示影响边界。靠内的边界是衰减开始的地方。
范围限制
在3D 视图中显示裁减距离。
视差
在3D 视图中显示 自定义视差 外形。