渲染 常规设置 渲染为 无 光晕 路径 时序 物体 集合 使用计数 附加 渲染 参考 面板: 粒子系统 ‣ 渲染 渲染面板 控制粒子在渲染时的显示方式。 Note Cycles仅支持物体和集合渲染类型。 常规设置 缩放 待完善。 随机性缩放 待完善。 材质 设置对象材质中的哪一个用于着色粒子。 坐标系...

光照 光照 Workbench引擎不适用场景灯光。所使用的光照条件将在 “光照” 面板中进行设置。 参考 面板: 属性 ‣ 渲染 ‣ 光照 平展: 不计算任何光照。将渲染场景的基础色。 棚灯: 使用棚灯照亮物体。棚灯可在 首选项中配置 。棚灯可跟随摄影机或固定位置。当固定时，灯光角度可以调整。 世界空间照明 使用世界空间照明，灯光...

input Bug & Tip input 输入框。该组件是原生组件 ，使用时请注意相关限制。 属性名 类型 默认值 说明 value String 输入框的初始内容 type String "text" input 的类型 password Boolean false 是否是密码类型 placeholder String 输入框为空时占位符...

反射探针 视觉比较 设置 ReflectionProbe ReflectionProbe 属性 ReflectionProbe 混合 限制 反射探针 备注 反射探针仅在集群 Forward 和 Forward 移动渲染后端中受支持，在兼容性后端中则不受支持。 如 标准 3D 材质与 ORM 3D 材质 中所述，物体可以显示反射光和/或漫...

次表面散射(SSS ) 次表面散射(SSS ) 此效果是通过在屏幕空间内用模糊漫射光照的方式来模拟真实的次表面散射。 参考 面板 渲染 ‣ 次表面散射(SSS) 采样 用于计算散射效果的采样数量。 抖动阈值 若要保证该效果的运行效率，采样需要保持一致且非随机。当散射半径较高时将导产生十字形图案。为了隐藏可见图层，提高抖动阈值将用随机图层...

内置 shader 变量 内置 shader 变量 所有内置可使用的 shader 变量在被调用之前都必须引入包含该变量的头文件，所有的头文件都被包含在 chunks 目录下。接下来说明一下每一个头文件所包含变量的说明。 1.cc-local.inc 变量名 类型 变量说明 cc_matWorld highp mat4 本地空间转世界空间。 cc...

渲染烘焙 安装 设置 影响 所选物体 -> 活动物体 输出 渲染烘焙 Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是： 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。 烘焙环境光遮蔽或程序纹理，作为纹理绘制或进一步编辑的基础。 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。 Not...

环境光遮蔽 环境光遮蔽 环境光遮蔽是一种基于 GTAO 的程序计算，并应用于间接光照。扭曲法线选项会使得漫射光照仅来自最少的遮挡方向。 环境光遮蔽可以在渲染层中作为独立的通道被渲染。 Note 使用 环境光遮蔽 节点时必须开启此效果。 参考 面板: 渲染 ‣ 环境光遮蔽（AO） 距离 产生环境光遮蔽效果的距离。 系数 影响环境光遮...

环境光遮蔽 环境光遮蔽 环境光遮蔽是一种基于 GTAO 的程序计算，并应用于间接光照。扭曲法线选项会使得漫射光照仅来自最少的遮挡方向。 环境光遮蔽可以在渲染层中作为独立的通道被渲染。 Note 使用 环境光遮蔽 节点时必须开启此效果。 参考 面板: 渲染 ‣ 环境光遮蔽（AO） 距离 产生环境光遮蔽效果的距离。 系数 影响环境光遮...

烘焙系统 创建 使用 编辑 烘焙系统 烘焙系统是通过计算引擎场景中所有光源对物体的影响最终生成光照贴图并在场景中应用的过程，该系统的目的是减少实时光源的运算，从而提高场景运行效率。 创建 开启烘焙系统需要三个步骤: 在顶部菜单栏 Project(项目) 中单击该菜单按钮，在弹出菜单栏中单击Lightmap(光照贴图) 按钮，弹出...