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  • 原理化 BSDF着色器节点

    原理化 BSDF着色器节点 输入选项 属性 输出选项 举例 原理化 BSDF着色器节点 原理化 BSDF着色器节点。 原理化 BSDF 节点将多个节点组合成一个易于使用的节点。它基于迪士尼原理模型,也称为“PBR”着色器,使其与其他软件兼容,如皮克斯的Renderman®和虚幻引擎®。从SubstancePainter®等软件绘制或烘焙...
  • 渲染调式功能

    渲染调试功能 1、公共选项 2、单项模式 I、原始模型数据 II、原始材质数据 III、光照结果数据 IV、其他数据 3、组合模式 4、运行时使用渲染调试 渲染调试功能 注意 :只有使用 Surface Shader 框架的材质,内置的渲染调试功能才可以生效。 通过在编辑器的场景预览窗口右上角按钮选择对应的调试模式即可同屏查看模...
  • 辐射体积

    辐射体积 可见性 混合 分辨率 视图显示 辐射体积 间接光漫射被储存在辐射体积的阵列中。他们通过控制辐射体积的阵列和分辨率来控制。 选中辐射体积物体后出现的那些小圆点阵列就是他们计算漫射光照的位置。 See also 间接光照明。 如果场景中启用了环境光遮蔽(AO),它将会影响到间接光漫射照明。如果启用环境光遮蔽(AO)时勾选 弯曲...
  • 降噪

    降噪 路径追踪 噪点的来源 最多反弹次数 焦散和滤除光泽 光线衰减 多重重要性采样(Multiple Importance Sampling) 玻璃和透明阴影 日光入口 降噪 钳制光斑 降噪 在执行最终渲染时,尽可能降低噪点非常重要。在这里,我们将讨论一些技巧,虽然打破了物理定律,但是在合理时间内渲染动画时尤为重要的。单击以放大示例...
  • 辐射体积

    辐射体积 可见性 混合 视图显示 辐射体积 间接光漫射被储存在辐射体积的阵列中。他们通过控制辐射体积的阵列和分辨率来控制。 选中辐射体积物体后出现的那些小圆点阵列就是他们计算漫射光照的位置。 See also 间接光照明。 如果场景中启用了环境光遮蔽(AO),它将会影响到间接光漫射照明。如果启用环境光遮蔽(AO)时勾选 弯曲法线,它从...
  • 辐射体积

    辐射体积 可见性 混合 视图显示 辐射体积 间接光漫射被储存在辐射体积的阵列中。他们通过控制辐射体积的阵列和分辨率来控制。 选中辐射体积物体后出现的那些小圆点阵列就是他们计算漫射光照的位置。 See also 间接光照明。 如果场景中启用了环境光遮蔽(AO),它将会影响到间接光漫射照明。如果启用环境光遮蔽(AO)时勾选 弯曲法线,它从...
  • 基于多 Pass 的多光源支持

    基于多 Pass 的多光源支持 基于多 Pass 的多光源支持 超着色器(Uber Shader)目前在一些性能受限的平台上仍然是主流方案,但随着硬件性能的增强和画质需求的提高,固定数量的光源再也无法满足实际应用的需求,于是就有了支持多光源的方案 — 多遍绘制 。 下面以 Creator 中默认的光照材质 default-material.mtl ...
  • 渲染烘焙

    渲染烘焙 安装 设置 影响 所选物体 到 活动物体 输出 边距 渲染烘焙 Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途,最常见的是: 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。 烘焙环境光遮蔽或程序纹理,作为纹理绘制或进一步编辑的基础。 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。 ...
  • 渲染烘焙

    渲染烘焙 建立 设置 烘焙类型 已选定为活动物体 输出 渲染烘焙 参考 面板: 渲染 ‣ 烘培 Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途,最常见的是: 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。 烘焙环境光遮蔽或程序纹理,作为纹理绘制或进一步编辑的基础。 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏...
  • 自发光

    自发光 自发光 控制表面发射光的颜色和亮度。当场景中使用了自发光材质时,它看起来像一个可见光。物体将呈现『自发光』效果。 自发光材质通常用于某些部位应该从内部照亮的物体上,例如监视器屏幕、高速制动的汽车盘式制动器、控制面板上的发光按钮,或黑暗中仍然可见的怪物眼睛。 简单的自发光材质可以通过一个颜色和亮度来定义。如果设置为自发光亮度...