渲染烘焙

参考

参考Blender渲染一节中的 渲染烘焙 。

在Cycles中使用渲染设置（采样、反弹、……）进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。

烘焙发生在物体材质的各自活动纹理上。活动纹理是指材质节点中最后选择的图像纹理。这意味着活动的物体必须要有一个材质（或是选择的物体，当不烘焙时“所选物体->活动物体”），而且材质中至少要有一个图像纹理节点，以用于烘焙图像。需要注意的是，该节点无需连接到其他的节点。活动的纹理只是做为一个常规的图像使用，好投射绘制以及查看预览。以此以来，烘焙完成后，你就可以在纹理模式下直接预览到烘焙的结果。

选项

环境光遮蔽通道。

烘焙模式

• 合成结果
• 烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光，特殊效果。

组合通道选项。

通过相应组合可以单独切换以形成最终地图。

• 环境光遮蔽
• 烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。
• 阴影
• 烘焙阴影及灯光。
• 法线
• 烘焙不同空间的法线。

法线通道设置。

• 法线空间

• 法线可以在不同的空间中烘培：

  • 对象空间
  • 对象坐标中的法线，与对象变换无关，但取决于变形。
  • 切线空间
  • 切线空间坐标中的法线，与对象转换和变形无关。这是默认设置，在大多数情况下都是正确的选择，因为法线贴图也可以用于动画对象。
• Swizzle
• 轴要烘培成红色，绿色和蓝色的通道。在材质中你也可以选择相同的空间坐标，也就是图像纹理选项中，法线映射设置的下面。为了得到的正确的结果，这里的设置应该和烘焙中的设置相同。

• UV
• 仅烘焙材质的颜色和纹理，不含有着色信息。
• 自发光
• 烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。
• 环境光
• 烘焙从物体中心所观察到的环境。
• 漫射，光泽，传递，表面细分
• 烘培材质的漫射，光泽，传递和表面细分的通道。

漫射传递选项。

• 如果只选择了颜色，则将获得颜色通道，该颜色是曲面的属性，与采样细化无关。
• 如果未选择颜色，则会以灰度方式获得直接或间接贡献。
• 如果选择了颜色和直接或间接的颜色，则可以获得直接和或间接贡献的颜色。

附加选项

• 边距
• 烘焙的结果将会超出每一个UV块的边界，以此来柔和纹理中的接缝。
• 清空
• 选择该项时，在渲染烘焙前会先清空图像。
• 所选物体>主控物体
• 烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹，你可以通过调节光线距离或是罩体挤出（取决于你是否使用罩体）来调节光线的起点。对于更多的控制，你可以通过指定罩体物体来实现。

Note

内存用量

每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存，为了避免内存不足而造成的崩溃，在烘焙之前，可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置，也会影响到内存的使用。比如分的块越大，CPU占用的越少，而内存则会占用的更多（不管是CPU，还是GPU）。

• 罩体
• 光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。
• 光线距离
• 在使用所选物体>活动物体时，控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用罩体时可用。
• 罩体偏移
• 在使用 所选物体->活动物体 时，控制光线向内投射的距离。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割（如应用掉边线分割修改器）也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。
• 罩体
• 指定作为 罩体 的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

Note

当挤出低模不能获得良好的结果时，你可以创建一个低模的副本，并将其做成 罩体 。而且两者要有相同的 拓扑 才行（相同的面数和面顺序）。