遮罩

遮罩

遮罩用于控制网格的哪些区域会受到雕刻的影响。

被遮罩的部分显示为黑色。

笔刷

To edit the mask, select the Mask Brush from the Brush panel.

编辑

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask

可以在整个模型中编辑遮罩。使用 A 打开饼菜单以选择不同的操作。

反转遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Invert Mask

快捷键

Ctrl-I

反转现有的遮罩。

填充遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Invert Mask

使用为1的数值来填充整个遮罩。

清除遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Invert Mask

快捷键

Alt-M

Fills the mask with a value of 0. To completely remove the mask data, see Clear Sculpt-Mask Data.

方形遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Box Mask

快捷键

其工作方式类似框选工具，它可以创建一个矩形的遮罩区域。按住 Shift 来清除选择区域内的遮罩。

套索遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Lasso Mask

快捷键

Shift-Ctrl-LMB

可用于创建自由形式的遮罩，与套索选择类似。

Tip

要使用 套索遮罩 工具清除区域的遮罩，首先反转遮罩，应用 套索遮罩，然后再将遮罩反转回来。

遮罩滤镜

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Mask Filters

遮罩滤镜是应用于整个绘制遮罩的操作。

类型

平滑/锐化遮罩

Changes the crispness of the mask edge.

生长/收缩遮罩

Changes the size of the mask.

提高/降低对比度

Changes the contrast of the mask.

迭代

The number of times that the filter is going to be applied.

自动迭代次数

Use an automatic number of iterations based on the number of vertices of the sculpt.

按拓扑展开遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Expand Mask by Topology

快捷键

Shift-A

以均匀的方式从活动顶点向外辐射遮罩。

按曲率展开遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Expand Mask by Curvature

快捷键

Shift-Alt-A

创建从活动顶点向外辐射的遮罩，同时遵循网格的曲率。

遮罩提取

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Mask Extract

从被遮蔽的几何体创建副本网格物体。

阈值

最小遮罩值，用以考虑从原始网格中提取面的顶点有效。

添加边界循环

Creates and extra boundary loop on the edges of the geometry, making it ready for adding a Subdivision Surface modifier later.

平滑迭代

应用于提取网格的平滑迭代次数。

投影至雕刻

将提取的网格投影到原始雕刻物体中。

提取为实心

向新创建的网格物体添加实体化修改器。

遮罩切片

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Mask Slice

从网格中删除遮罩顶点。

阈值

最小遮罩值，用以考虑从原始网格中提取面的顶点有效。

填充洞面

使用可能由 遮罩切片 操作产生的几何体填充凹孔。

切片到新物体

从被遮蔽的几何体创建新的物体。

污迹遮罩

参考

模式

雕刻模式

菜单

Mask ‣ Dirty Mask

基于几何型腔和尖锐度生成遮罩。

显示设置

参考

模式

雕刻模式

弹出框

视图覆盖 ‣ 雕刻 ‣ 遮罩

The mask display can be toggled as a viewport overlay. In the overlay popover, the opacity of the mask overlay can be adjusted to make it more or less visible on the mesh.

清除雕刻遮罩数据

参考

模式

物体/编辑模式

菜单

属性 ‣物体数据 ‣ 几何数据 ‣ 清除雕刻遮罩数据

Completely frees the mask data layer from the mesh. While not a huge benefit, this can speed-up sculpting if the mask is no longer being used.